Alloy Manufacturing / Investment Casting
-
LICHTBOGEN-SCHMELZANLAGEHide
-
Gerät: | Lichtbogen-Schmelzanlage |
Hersteller: | Bühler |
Daten: | Schmelzstrom: stufenlos 20A-800A Max. Leistung: 32kW Vakuum: 10-5 mbar = 10-3 Pa Mit Probenmanipulator Optional: Einbau der Induktionsspule der Induktionsschmelzanlage (Fa. Vetter) |
Beschaffung: | 07/2003 |
Weitere Fotos: | Foto 1 |
| Foto 2 |
| Foto 3 |
-
VAKUUM-INDUKTIONS-GIESSANLAGEHide
-
Gerät: | Vakuum-Induktions-Gießanlage mit integrierter Formschalenheizung |
Hersteller: | Eigenanfertigung |
Daten:
| Schmelztemperatur bis 1600°C Formschalentemperatur bis 1500°C Schmelzmenge 200 – 2500 g Hochvakuum 10-4 mbar 40 kW Generatoren bei 30 kHz Frequenz |
|
Beschaffung: | 07/2007
|
Weitere Fotos:
| Foto 1
|
| Foto 2
|
| Foto 3
|
| Foto 4
|
| Foto 5
|
-
VAKUUMKALTWANDOFENHide
-
Gerät: | Vakuumkaltwandofen |
Hersteller: | XERION Advanced Heating Ofentechnik GmbH |
Daten:
| Wolframheizer bis 2300 °C unter Vakuum oder Inertgas (Ar, H2) Hochvakuum 4*10-6 mbar Heizrate 10 K / min Ofenraum ca. 200 mm Durchmesser, 200 mm Höhe |
Beschaffung: | 11/2008 |
-
3D-Drucker Raise3D Pro2 mit Dual-ExtruderHide
-
Gerät: | 3D-Drucker "Raise3D Pro2 mit Dual-Extruder |
Hersteller: | Pontialis |
Daten:
| Drucktechnologie: FDM Bauraum: einzelne Extrusion: 305x305x300 mm doppelte Extrusion: 280x305x300 mm Unterstützte Materialien: PLA/ABS/HIPS/PC/TPU/TPE/NYLON/PETG/ASA/PP Glasfasergefüllt/Holzgefüllt/Kohlefaserverstärkt Filament-Durchmesser: 1,75 mm XYZ Schrittweite: 0.78125, 0.78125, 0.078125 micron Verfahrgeschwindigkeit Druckkopf: 30-150 mm/s Bauplatte: Beheizte Aluminiumbauplatte mit Magnethalterung Maximale Plattentemperatur: 110°C Maximale Düsentemperatur: 300°C |
Beschaffung: | 04/2019 |
-
3-D-DRUCKERHide
-
Gerät: | 3-D-Drucker, Kunststoff, für Feingussmodelle |
Hersteller: | Kudo 3D |
Daten: | Auflösung: bis zu 37 µm Maximaler Bauraum: 19 x 10 x 25 cm3 Maximale Druckgeschwindigkeit: 7 cm/h |
Beschaffung: | 04/2016
|
Weiteres Foto:
| Foto
|
-
WÄRMEBEHANDLUNGSOFEN ZUR INNEREN OXIDATIONHide
-
Gerät: | Wärmebehandlungsanlage |
Hersteller: | Eigenanfertigung |
Daten: | einstellbarer O2-Partialdruck (10e-16 bar bis 3*10e-13 bar bei Verwendung des Trägergases Ar-2% H) Maximaltemperatur (Ofen): 1500°C Langzeittemperatur (Quarzglasapparatur): 1200°C Steuerung über LabView |
Beschaffung: | 2001 |
-
OFEN bis 1150 °CHide
-
-
WÄRMEBEHANDLUNGSOFEN 1200 °CHide
-
-
TISCH-GIEßANLAGEHide
-
Gerät: | Tisch-Gießanlage MC 20 V
|
Hersteller: | INDUTHERM Erwärmungsanlagen GmbH |
Daten: | Schmelztemperatur bis 2000 °C Schmelzen unter Vakuum oder Schutzgas (bis -1 bar) Gießen mit Überdruck bis 3 bar und Vibrations-System Tiegelvolumen 100 g Au, 110 g Stahl, 200 g Platin Küvettengröße Ø80 mm x 80 mm H 3,5 kW Generator |
Beschaffung: | 04/2015
|
Weitere Fotos:
| Foto 1
|
| Foto 2
|